용접성.
표면 화학 도금 Pd막은 주로 Pd， P， O로 구성되어 비등희에서 내식성이 우수하고 부식속도가 L 스테인리스강에 비해 개 수량급이 낮아졌으며 갑을혼합산에서도 부식속도가 현저히 낮아졌다.할로겐 이온을 함유한 비등 용액에서 할로겐 이온의 농도가 매우 높다
그 라드 스톤스테인리스강관 산화피의 예처리는 산화피를 푸석푸석하게 만든 다음에 산세척을 하면 쉽게 제거할 수 있다.예처리는 알칼리성 소금 용융 처리법으로 나눌 수 있다.알칼리성 용융물은 수산화물의 %， 소금의 %를 함유하고 있으며， 용융염의 양자 비율은 엄격하게 해야 한다.
같고 방위가 반대이기 때문에 두 업무의 압력은 서로 상쇄된다.
헬싱키 부 르 크 스테인리스강판 크롬의 함량은 -%이고 NI의 함량은 -%이다. 니켈의 함량이 비교적 높기 때문에 부식 방지에 크게 강화되었다. 일반 환경에서 운용하면 년 이상 버틸 수 있고 열악한 고리에서
저탄소 고합금 스테인리스강으로 성분 중의 니켈 함량이 %보다 적기 때문에 이 강종은 철소체-오씨체 구조를 포함하기 때문에 쌍상 스테인리스강이라고 부른다.
녹강은 산화 현상이 자주 발생하는 세 가지 원인: 생산 공정의 원인은 철강 제품의 산화를 초래하는 원인 중 하나이다. 생산 공정과 제품 특성에서 볼 때 제품 표면에 얇은 산화막을 형성하는 것은 산화를 피하는 기초 공정이자 철강 제품의 구별이다.
물 품질의 요구.이에 따라 건축 급수관 재료는 결국 금속관 시대로 돌아갈 것으로 전문가들은 보고 있다.외국의 응용 경험에 따라 금속관에서 얇은 벽의 스테인리스강 파이프를 종합 성능이 좋은 파이프 중의 하나로 인정한다.
장식 스테인리스강 파이프: 일반적으로 외벽이 비교적 빛나는 파이프이기 때문에 유명한 생각이다. 장식 스테인리스강 파이프는 장식용으로 쓰인다. 일반적인 장식용도의 스테인리스강 파이프는 모두 비교적 얇다. 스테인리스강 제품 파이프의 제작 공정과 다르기 때문에 가격도 매우 다르다. 스테인리스강을 장식한다.
.차원 축 레이저 절판기에서는 -분만 있으면 완성할 수 있다.그리고 레이저 절단의 절구는 기계적인 응력이 없고 가시가 없다.가공 정밀도가 높고 중복성이 좋아 재료 표면을 손상시키지 않는다.
기술 서비스의.
사람이 해!이 말은 이치에 맞지 않는 것이 아니다.경험이 풍부한 노사부는 아마 반나절이면 다 할 수 있을 텐데， 당신은 오히려 ， 주일을 연구해야만 설치를 다 할 수 있습니다.이곳의 원가가 큰 부분을 차지하는데， 일반적으로 분의 정도를 차지한다.
스테인리스강 파이프의 용접은 일반적으로 베이스 용접，그 라드 스톤310s 스테인리스강 파이프， 충전 용접， 덮개 용접의 몇 부분으로 구성된다.스테인리스강 파이프 베이스 용접은 스테인리스강 파이프 용접의 관건적인 일환으로 공사의 품질에 관계될 뿐만 아니라 공사의 진도에 관계된다. 현재 스테인리스강 베이스는 뒷면 충전아르곤과 불충전으로 나뉜다.
횟수
시장.열간 압연(열) 스테인리스강관의 직경은 -mm의 모델은 모두 종， 벽 두께는 -mm의 총 종이다.냉각펌프(압연) 스테인리스강관의 직경은 -mm의 총 종，그 라드 스톤XM21 프리미엄 스테인리스강 파이프， 벽 두께는 .-mm의 총 종이다.
스테인리스강 용접관 생산 공정: 원료-분조-용접제관-수리단-포광-검사(분사)-포장-출하(입고)(장식용접관).
오씨가 스테인리스강을 만드는 열처리 오씨체 스테인리스강에서 자주 사용하는 열처리 공정은 고용도 처리， 안정화 처리와 응력 제거 처리 등이 있다.
그 라드 스톤얇은 벽의 스테인리스강 파이프는 오래 쓸 수 있어 이미 공사계에서 공인되고 있으며， 관련 분야는 벽의 두께를 줄이고 칸막이를 낮추는 방면에서 착수하여 진일보에 유리하게 하고 있다.특히 스테인리스강 파이프는 가격이 높지 않기 때문에 조립된 연결，그 라드 스톤430 전문 스테인리스강 판재， 파이프의 신뢰성 및 가격은
[열간 압연대강/박판] 경도가 낮고 가공이 쉬우며 연장 성능이 좋은 등 장점이 있다.
Cr)， SUS(Cr) 등은 저온 상태에서 충격치가 급격히 떨어지는 모습을 보였다.따라서 저온 상태에서 사용할 때는 각별히 주의할 필요가 있다.철소체 계열의 스테인리스강 충격 강인성을 개선하기 위해 고순화 공정을 고려할 수 있다.C， N 등